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Polvere di lappatura al carburo di silicio verde

Polvere di lappatura al carburo di silicio verde (GC)

1. Introduzione di base

La polvere di lappatura in carburo di silicio verde è una polvere fine di carburo di silicio alfa ad elevata purezza, caratterizzata da un colore verde brillante, un’altissima durezza, eccellenti proprietà autoaffilanti, stabilità chimica e granulometria rigorosamente controllata. È ampiamente utilizzata per la lappatura di precisione, la rettifica fine e la lucidatura a specchio di materiali duri e fragili, in particolare nei settori dell’elettronica, dei semiconduttori e della ceramica elettronica.
ANALISI CHIMICA TIPICA
SiC≥99,05%
SiO2≤0,20%
F,Si≤0,03%
Fe2O3≤0,10%
FC≤0,04%
PROPRIETÀ FISICHE TIPICHE
Durezza:Durezza Mohs: 9,5
Punto di fusione:Sublime a 2600 ℃
Temperatura massima di esercizio:1900℃
Peso specifico:3,20-3,25 g/cm³
Densità apparente (LPD):1,2-1,6 g/cm³
Colore:Verde
Forma della particella:Esagonale
Taglie disponibili:
Micropolvere:

JIS:240# 280# 320# 360# 400# 500# 600# 700# 800# 1000# 1200# 1500# 2000# 2500# 3000# 4000# 6000# 8000# 10000#

ALIMENTAZIONE: F230 F240 F320 F360 F400 F500 F600 F800 F1000 F1200 F1500 F2000

2. Proprietà principali

  • Elevata purezza : contenuto di SiC ≥98,5%~99,0%, basso contenuto di silicio libero, ferro e impurità nocive, adatto per applicazioni di semiconduttori e ceramiche elettroniche di alto livello.
  • Durezza elevatissima : durezza Mohs 9,2–9,5, inferiore solo a quella del diamante e del CBN; elevata capacità di taglio e lunga durata.
  • Eccellente capacità di autoaffilatura : i grani si fratturano gradualmente durante la lappatura, esponendo continuamente nuovi taglienti affilati, senza facile passivazione.
  • Buona conducibilità termica : rapida dissipazione del calore durante la rettifica, evitando efficacemente danni termici e micrograffi sui pezzi in lavorazione.
  • Inerzia chimica : resistente ad acidi e alcali, resistenza all’ossidazione ad alta temperatura; nessuna contaminazione per i componenti di precisione.
  • Dimensione delle particelle controllata : una distribuzione ristretta delle dimensioni delle particelle e una granulometria fine in micron consentono di ottenere una superficie a specchio ultra-liscia con bassa rugosità.

3. Applicazioni principali

  1. Materiali semiconduttori ed elettronici: lappatura di precisione e lucidatura a specchio di wafer di silicio, substrati di zaffiro, cristalli di quarzo e substrati ceramici di AlN/allumina.
  2. Industria della ceramica elettronica
  • Lucidatura di precisione delle superfici di substrati ceramici di allumina
  • Sbavatura e finitura di precisione di componenti ceramici per imballaggi e isolamento.
  • Levigatura superficiale del nastro verde MLCC e dei componenti in ceramica piezoelettrica
  1. Ottica e vetro di precisione: lenti ottiche, prismi, connettori per fibra ottica, lucidatura di alta precisione delle superfici in vetro indossabile.
  2. Leghe dure e stampi di precisione: lappatura e finitura di utensili in carburo, ugelli, cuscinetti in ceramica e stampi di precisione.

4. Specifiche comuni

  • Dimensione delle particelle: FEPA F230–F2000; JIS #800–#10000
  • Grado elettronico D50: 1~5 μm
  • Aspetto: polvere verde pura, buona fluidità, bassa agglomerazione

5. Confronto con la polvere di lappatura di allumina fusa bianca

  • Durezza: SiC verde > Allumina bianca, maggiore efficienza di macinazione
  • Tenacità: l’allumina bianca è più resistente; il SiC verde è più fragile ma ha una migliore capacità di autoaffilatura.
  • Finitura superficiale: il SiC verde offre una minore rugosità e un migliore effetto specchio per ceramiche elettroniche di precisione
  • Applicazione: Allumina bianca per sgrossatura pesante; SiC verde per lappatura fine e lucidatura a specchio.
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